核聚变与等离子体物理
主办单位:中国核工业集团公司
国际刊号:0254-6086
国内刊号:51-1151/TL
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工业等离子体技术

  本书的内容可分为五大热门的技术,即纳米技术、太阳能电池技术、生物医药及临床应用技术、应用于可持续发展的工业等离子体技术。由标题可知,这些应用以及本书的读者都涉及多个领域。本书横跨材料科学、工业化学、物理学、工程学等学科,是从事工业及学术研究,还有以应用为导向的等离子体技术研究人员的必备参考书籍。

  本书内容分为34章:1.等离子体简介;2.低温等离子体在环境技术上的应用;3.大气等离子体空气污染控制,固体废物和水处理技术:基础及展望;4.高压低温等离子体的光学诊断分析;5.关于静电集尘器和低温等离子体反应器的流模型的激光分析;6.水等离子体在环境技术上的应用;7.大气等离子体中的有机污染化学;8.广域等离子体的产生及应用;9.减压热解气体的低温等离子体废气处理系统;10.制药及生物医学工程中的等离子体技术;11.用重介质等离子体技术制造的碳磁性纳米微粒靶向树突状细胞;12.脉冲功率及等离子体在生物系统和活体有机系统中的应用;13.等离子体聚合技术在生物材料方面的应用;14.常压大气环境下的等离子体灭菌;15.用低压电感耦合等离子体放电来消除致病生物残留物;16.射频放电产生氧自由基用于灭菌和蛋白质处理;17.由等离子体引发的接枝聚合改性聚对苯二甲酸乙二酯表面的亲水性和生物活性;18.薄膜硅太阳电池的等离子体处理策略及讨论;19.大面积甚高频等离子体的特性;20.在减轻由SiH4放电作用下形成的纳米颗粒的沉积产生的高抗光照稳定性条件下a―si:H薄膜的沉积;21.诊断并建模SiH4/H2等离子体,研究在双重频率源下的微晶硅沉积作用;22.类金刚石碳质物简介;23.类金刚石碳质物的应用;24.类金刚石碳质物在生物过程中的应用;25.等离子体处理半导体纳米氮化硼立方晶薄膜;26.等离子体沉积中类金刚石碳质物薄膜的摩擦原理;27.脉冲直流等离子体下的类金刚石碳质物薄膜的生长;28.N―Ti02薄膜的等离子体沉积;29.有关生物医学应用的类金刚石碳质物和多层薄膜的疏水性研究;30.从微等离子体中得到新型的电磁活性介质;31.用调幅脉冲射频放电装配纳米微块;32.等离子体放电的托马森散射诊断;33.低压冷态等离子体中的晶化纳米灰尘粒子的生长;34.等离子体洞室中细微颗粒的收集与去处。

  本书包含多名日本工业等离子体技术应用领域的专家、学者的多年的研究成果,内容新颖实用,具有很大的启发及指导意义。本书与其同一出版社的另外一本著作《Advanced Plasma Technology》(Riccardo dagostino等著,February 2008)内容互为补充,参照阅读更易深入理解其内容。本书适合所有相关专业的学生、教师、研究人员及工程技术人员参考。

  靳绍巍,博士生

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